活細胞工作站 ibidi Heating System Multiwell Plate 多孔板加熱系統–Silver Line 12150
活細胞工作站ibidi多孔板加熱系統，用于高通量活細胞成像的加熱系統，可在高分辨率顯微鏡觀察期間提供穩定、均勻的溫度
● 易于安裝在配有K型框架配件（160mm x 110mm）的倒置顯微鏡上
● 包括一個用于多孔板的Incubation Chamber孵育箱，可使用電動載物臺進行高通量活細胞成像
● 為了在顯微鏡下長時間維持生理條件，并精確控制溫度、濕度、CO?和O?，ibidi提供了Stage Top Incubators臺式培養箱/加熱孵育系統，將 ibidi Heating System 加熱系統和 ibidi Gas Incubation System 氣體培養系統相結合。
本系統包括：
● ibidi Temperature Controller–Silver Line 溫度控制器
● Incubation Chamber Multiwell Plate?– Silver Line 多孔板孵育箱（貨號12151）
活細胞工作站ibidi多孔板加熱系統的實驗應用：
ibidi加熱系統是顯微鏡下進行生理條件的活細胞成像實驗的理想選擇。
結合ibidi Gas Incubation System氣體孵育系統， 便是一個完整的Stage Top Incubators加熱孵育系統，可精確控制顯微鏡上的溫度、濕度和CO?/O?等基本參數，以獲得可重復的結果，如：
● 趨化性測定
● 血管生成實驗
● 細胞遷移實驗
● 傷口愈合實驗
● 增殖試驗
● 流動檢測下的細胞培養
● 缺氧實驗
ibidi加熱系統針對需要額外聚焦穩定性的高分辨率成像應用進行了優化，例如：
● TIRF
● 熒光顯微鏡
● 共聚焦顯微鏡
● DIC顯微鏡
● 油浸顯微鏡
1 Slide or Dish單個載玻片/培養皿的解決方案
使用ibidi Heating System Slide/Dish–Silver Line載玻片/培養皿加熱系統，ibidi還提供低通量活細胞顯微成像的解決方案。
技術特點：
● 易于安裝安裝在配有160 mm x 110 mm K型框架的倒置顯微鏡上
● 通過持續電流進行熱調節，在顯微鏡觀察期間實現非常高的聚焦穩定性（zui小溫度/Z位置波動）
● 適用于ANSI/SLAS(SBS)標準格式（85.5 x 127.5 mm2）的多孔板，包括ibidi μ-Plates培養板
● 由于加熱蓋的理想熱量分布，蓋子上不會產生冷凝現象，從而獲得出色的圖像
● 與Objective Heater Universal–Silver Line通用型物鏡加熱器（不包括在內）一起使用時，適用于油浸顯微鏡鏡檢
● 適用于DIC顯微鏡和TIRF
● 可與ibidi Gas Incubation System氣體培養系統結合使用，創建一個完整的Stage Top Incubator臺式培養箱，用于顯微鏡下長時間維持生理條件，并精確控制溫度、濕度、CO?和O?
● 與 μ-Dish Microscopy Rack 培養皿顯微鏡架和 μ-Slide Microscopy Rack 載玻片顯微鏡架兼容，可對多個 μ-Dish 或 μ-Slide 進行顯微觀察，穩定性非常高
● 濕度傳感器集成在加熱蓋內并靠近樣品
● 減少電纜數量，便于操作
● 磁性載玻片支架為樣品提供額外的穩定性
● 使用IncuControl software軟件，通過筆記本電腦進行儀器控制和數據記錄
● 包括外部溫度傳感器（例如，用于在校準系統時測量樣品溫度）
ibidi加熱系統的原理-Silver Line
細胞對環境的變化十分敏感。溫度、濕度/蒸發和CO2/O2水平等因素會對細胞培養實驗的結果產生重大影響。 因此，在顯微鏡載物臺上進行活細胞成像實驗時，需要保持實驗條件，以獲得與生物相關且可重復的結果。
ibidi加熱系統可為高分辨率活細胞顯微鏡成像創造穩定、均勻的溫度。 它適用于帶有多孔板通用安裝框架的倒置顯微鏡載物臺。 它由ibidi Temperature Controller溫度控制器、ibidi Incubation Chamber孵育箱（加熱蓋和加熱板）組成。 將顯微玻片放入ibidi Incubation Chamber孵育箱后，在顯微鏡上進行活細胞成像的實驗時，顯微載玻片將保持在一個穩定、確定的溫度下。
為全面控制培養環境，ibidi提供Stage Top Incubator臺式培養箱，該培養箱結合了ibidi Heating System加熱系統和 ibidi Gas Incubation System氣體培養系統，可調節濕度、溫度、CO2和（可選）O2濃度。
無凝露的出色圖像
ibidi Heating System–Silver Line 加熱系統的加熱蓋溫度可獨立控制并優化分布，從而解決了活細胞成像過程中經常出現的冷凝問題。
通過將蓋子加熱到高于平板的溫度（如40°C），可形成垂直溫度梯度。 這種梯度和ibidi Gas Incubation System氣體培養系統的主動濕度控制可防止細胞培養容器蓋上出現冷凝現象，而這對于獲得不受干擾的高質量顯微圖像至關重要。加熱板可將樣品溫度恒定在37℃。
穩定均勻的溫度
ibidi Heating System Multiwell Plate–Silver Line多孔板加熱系統可確保在孵育室中精確控制、穩定的溫度，并在細胞培養容器的各孔中均勻分布。溫度通過持續電流進行控制，從而可靠地防止位置波動，使該系統成為穩定聚焦的高分辨率活細胞顯微鏡的理想選擇。
在ibidi Heating System Multiwell Plate–Silver Line多孔板加熱系統培養過程中，μ-Plate 96 Well Black 的溫度分布穩定一致。 圖像由FLIR熱像儀采集。
高倍率和浸油顯微鏡：物鏡加熱器擴展
ibidi Heating System–Silver Line加熱系統可通過Objective Heater Universal–Silver Line物鏡通用加熱器進行擴展。 需要接近樣品的顯微鏡物鏡（如水或油浸物鏡）在不加熱物鏡的情況下，可能會通過從樣品到物鏡的熱傳導導致樣品冷卻。物鏡加熱器對物鏡的充分加熱可防止樣品冷卻，從而實現對活細胞的長期高分辨率成像。
ibidi Heating System Multiwell Plate–Silver Line多孔板加熱系統的配置
ibidi加熱系統的原理-Silver Line：
| K-Frame Stages (160 mm x 110 mm) |
Nikon | Ti-S-E and Ti-S-ER Stages with ibidi Stage Adapter |
ASI | MS 2000 Series；PZ 2000 Series |
IK | LMT Series |
Leica | K-Frame Opening (160 mm x 110 mm) |
LUDL | BioPrecision 2 Inverted；Biopoint 2 Inverted |
M?rzh?user | SCAN IM Series (except SCAN IM 50 x 50) |
Olympus | K-Frame Opening (160 mm x 110 mm) |
PI(Physik Instrumente) | U-780 PILine M-687.XX (from 2012 on) |
PRIOR | H117 |
Zeiss | Scanning Stage 130 x 85 mot. P K-Frame Opening (160 mm x 110 mm) |
PRIOR | H117 |
貨號：
貨號 | 產品名稱 | 描述 | 規格(套) |
12150 | ibidi多孔板加熱系統-銀色系列：溫度控制器、孵育箱、配有用于K型載物臺（160mm x 110mm）的帶加熱玻璃底的加熱板和加熱蓋 | ibidi Heating System Multiwell Plate – Silver Line: ibidi Temperature Controller–Silver Line, Incubation Chamber Multiwell Plate–Silver Line, with Heated Plate with Heated Glass Bottom for K-Frame stage (160mm x 110mm) and Heated Lid | 1 |
技術參數：
Temperature Controller – Silver Line溫度控制器 |
尺寸 | 90 x 170 x 230 mm3 |
重量 | 1.75 kg / 3.86 lbs |
外部電源 | AC 100–240 V, 50/60 Hz, 2 A |
Incubation Chamber Multiwell Plate–Silver Line多孔板孵育箱 |
溫度控制范圍 | 比環境溫度高5度（≥18°C）至45°C |
溫度穩定性 | +/- 0.2°C |
溫度均勻性 | +/- 2°C |
尺寸 | 160 x 130 x 30 mm3 (fits 160 x 110 mm2 K-frames) |
匹配細胞培養容器 | 采用ANSI/SLAS(SBS)標準格式的多孔板，包括ibidi μ-Plates(85.5 x 127.5 mm2) |
總量 | 430 g / 0.95 lbs |
進氣口 | Female Luer connector with Luer lock 帶魯爾接口的母魯爾接頭
|
冷疑器工作距離 | ≥ 26 mm |
物鏡工作距離 | > 1 mm for multiwell plates with a 180 μm coverslip bottom (e.g., μ-Plate 96 Well Black) |
> 2 mm for multiwell plates with a thick bottom |
